推荐应用
4-Trifluoromethylphenylboronic acid作为三氟甲基修饰的芳基硼酸衍生物，其强吸电子特性显著增强硼酸基团的Lewis酸性，在Suzuki-Miyaura偶联反应中表现出优异反应活性，广泛应用于含氟药物分子砌块、液晶材料及功能化高分子单体的合成。
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-25~-15℃避光保存，有效期3年。
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